二次離子質(zhì)譜 sims

本專題涉及二次離子質(zhì)譜 sims的標(biāo)準(zhǔn)有6條。

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)中，二次離子質(zhì)譜 sims涉及到分析化學(xué)。

在中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分類(lèi)中，二次離子質(zhì)譜 sims涉及到光學(xué)計(jì)量?jī)x器、基礎(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)與通用方法。

美國(guó)材料與試驗(yàn)協(xié)會(huì)，關(guān)于二次離子質(zhì)譜 sims的標(biāo)準(zhǔn)

• ASTM E1635-95(2000) 二次離子質(zhì)譜（SIMS）中成像數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
• ASTM E1635-06(2019) 二次離子質(zhì)譜（SIMS）中成像數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
• ASTM E1162-87(1996) 二次離子質(zhì)譜法(SIMS)中報(bào)告濺射深度截面數(shù)據(jù)
• ASTM E1504-11(2019) 二次離子質(zhì)譜法（SIMS）中質(zhì)譜數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施規(guī)程
• ASTM E1162-87(2001) 二次離子質(zhì)譜法(SIMS)中報(bào)告濺射深度截面數(shù)據(jù)

日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)調(diào)查會(huì)，關(guān)于二次離子質(zhì)譜 sims的標(biāo)準(zhǔn)

• JIS K 0169:2012 表面化學(xué)分析.二次離子質(zhì)譜(SIMS).帶多重亞鉛層對(duì)照物的深度分辨率參數(shù)估算方法

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可能用到的儀器設(shè)備